扩散工序总结
发布时间:2013-01-18     来源: solarzoom
本文摘要:一,扩散核心内容扩散就是将酸洗好的硅片经过高温扩散,在硅片表面形成一层很薄的膜,使硅片产生电流,即使硅片形成PN结。1:...

  ↓

  退舟

  ↓

  测片

  ↓

  卸片

  ∣

  返工片―↓―合格片

  ∣

  下一道工序(二次清洗)

  三,扩散常见的问题与原因

  1:方块电阻偏大

  原因:换新片源;

  扩散的温度偏小;

  扩散时间太短;

  三氯氧磷流量偏小;

  2:方块电阻偏小

  原因:换新片源;

  扩散的温度偏大;

  扩散时间太长;

  三氯氧磷流量偏大

   3:炉口电阻偏的大

  原因:石英门没有关紧;

  前限位开关已坏;

  密封圈坏掉;

  炉口温度偏低;

  4:少子寿命低于规定范围

  原因:片源问题;

  一次清洗没有制绒好;

分享到: