多晶硅片在空气中暴露时间长短对清洗效果的影响
发布时间：2013-04-22     来源： solarzoom
本文摘要：一、试验目的：验证硅片在空气中暴露时间的长短，对硅片清洗效果的影响。二、试验机床：昆山预清洗、捷佳创清洗机三、试验过程：...

　一、试验目的：验证硅片在空气中暴露时间的长短，对硅片清洗效果的影响。

　　二、试验机床：昆山预清洗、捷佳创清洗机

　　三、试验过程：

　　分3组试验，所有清洗工艺相同

　　试验一、硅片在空气中暴露15分钟以上，表面已经风干后进行清洗

　　试验二、硅片在空气中暴露5分钟后进行清洗

　　试验三、硅片一直浸泡在水中，直接进入清洗机，几乎不在空气中暴露

　　砂浆信息：切割液：奥克；碳化硅：显达

　　清洗类型：多晶硅片

　　使用工艺







 

关键词：多晶硅　空气中　暴露　

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