PECVD工序是太阳能电池加工的第4道工序，此道工序的目的是利用射频电源的辉光发电，使SiH4与NH3发生电离，在低压、高频、高温的环境下在硅片表面沉积一层起减反射与钝化作用的氮化硅蓝膜，从而增加光的吸收，提高电池转换效率。

　　在加工正常硅片时，在任何工序都不会在异常，但是在加工再利用片时，经常会发生碎片率高于正常片0.1%，高频报警次数多，造成的色差片比例约为3.5%，且效率效正常片低0.1%左右。

　　下面就介绍一点PE工序再利用片的处理技巧。

　　首先再利用片较正常片薄，经过二次制绒，硅片被腐蚀两次，必然变薄，这是我们没有办法改变的现状，只能从其他角度下手，通过5W1H的分析方法，发现工艺方法存在问题，需要改进。

　　现行工艺温度450℃，硅片薄易变形，导致碎片产生，且有碎片后，定产生高频报警，从而增加色差数量。在工艺时，将工艺温度调整由450℃降低到420℃，并保证膜厚折射率与目前相同，并要求工艺时间短于或与目前工艺时长相同，关注色差数量。

　　实验一：小批量实验参数的可靠性

　　工艺温度由450℃降到420℃；工艺时长为39分55秒，与正常工艺相同。

　　结论：片内膜厚均匀，颜色一致，无明显色差

　　实验二：两种工艺处理正常片

　　将同一批次硅片在同工艺处理后均分，其他工艺环境相同，一批按原工艺进行处理，一批按照新型处理工艺进行处理，对比色差数量与转换效率。

　　结论：

    实验三：色差片批量处理效果对比

　 将同一批次的色差片分批处理，进行效果对比。

　　结论：

    可见此法对处理再利用片效果较好，按近一步实验来看也可以推广至崩边、锯痕、薄厚不均等片上。

　　由于效率方面有0.03%-0.05%的提升，并且色差片数量并不比目前多，因而可推行到加工正常片上。

　　同时无论是使用管式PECVD的设备，还是链式PECVD设备均可使用。（编译：晔子）